Light Cutting Compound + Wax - Polish do lekkich śladów utlenienia

Nowa technologia z minerałem tlenku glinu.
Skutecznie zużywa ślady ziaren P1500.
Minerał doskonale optymalizuje połysk końcowy.
Pozostaje wilgotny przez długi czas, zapewnia mniejsze zużycie produktu i łatwiejszą pracę.